테크노세미켐(036830), 특허취득(네거티브 포토레지스트용 박리...)

목록
 테크노세미켐(036830)은 '네거티브 포토레지스트용 박리액 조성물'에 관한 특허를 취득했다고 공시했다. 취득일자는 5월09일이다.

 테크노세미켐이 최근 1년간 취득했다고 공시한 특허는 아래와 같다.

 
공시일자특허명칭

공시당일

등락률
금일공시네거티브 포토레지스트용 박리액 조성물-
금일공시평판디스플레이의 박막 트랜지스터 형성을 위한금속전극용 식각액 조성물-
금일공시반도체 제조용 감광성수지 제거제 조성물-
07.04.102차전지용 비수전해액-1.4%
07.03.02평판디스플레이 금속 전극용 식각액 조성물-0.43%
06.12.27에칭 잔류물 세정용 조성물 및 이를 이용한 세정방법-
06.12.19고단차 산화막의 평탄화를 위한 화학기계적 연마조성물-1.9%
06.07.14텅스텐막 연마용 CMP조성물-2.55%
06.07.10투명도전막 식각용액+0.74%
06.07.04알루미늄 및 투명도전막의 통합 식각액 조성물-1.42%
06.06.27평판디스플레이 투명도전막의 에칭액 조성물+4.01%
06.06.05실리콘 산화막 에칭용 조성물 및 이를 이용한실리콘 산화막 에칭방법+1.28%
06.05.22구리 연마용 조성물+0.31%
06.05.22반도체 연마슬러리용 첨가제 및 그 조성물+0.31%

 테크노세미켐의 매출구조는 다음과 같다.

 
(단위 :백만원,% )
사업부문 매출유형 품   목 구체적용도 주요상표등 매출액(비율)
반도체 재료 제품매출/
상품매출
화학기상증착용 화학약품 반도체 WAFER표면 위에 기체분자를반응시켜 박막을 형성 시키는 CVD/ALD공정에 사용 CVD
source 외
11,110
(7.8%)
상품매출/
제품매출
식각 및 세정용 화학약품 화학용액을 이용해 식각시키고자 하는 막과 화학반응을 일으켜 막을 제거하는 공정에 사용 B.O.E 외 49,984
(35.3%)
제품매출 CMP SLURRY 반도체 웨이퍼 연마재로서 고집적반도체에 적용되는 ILD공정에 사용 CMP slurry 5,136
(3.6%),
TFT-LCD 재료 제품매출/
상품매출
식각 및 세정용 혼산 및
임가공
TFT를 구동하기 위한 전극의 cell형성을 위한 patterning과정에서 사용 M.A.E 64,497
(45.5%)
기타 제품(전해액),상품(ND자석),기타매출 10,941
(7.7%)
합계 - 141,669




ⓒ 한경닷컴 & 씽크풀, 무단 전재 및 재배포 금지
한국경제 텔레그램 뉴스채널 핵심 경제뉴스 실시간 확인

증권

코스피 2,023.25
종목 검색

인기검색 순위

코스피/코스닥 인기검색순위
코스피 코스닥
SK디스커버... +0.60% 휴온스 -1.28%
SK디앤디 -2.47% 툴젠 -2.21%
SK가스 +0.84% DMS -4.01%
더존비즈온 -1.50% 대원미디어 -1.64%
한국항공우... -2.27% 도이치모터... -3.28%

20분 지연 시세

외국인 순매수

외국인 순매수 코스피
코스피
삼성전자 -2.06%
삼성SDI -0.70%
카카오 -0.71%
셀트리온 +1.40%
LG화학 -2.27%
외국인 순매수 코스닥
코스닥
카페24 +1.71%
메디포스트 +3.83%
에코프로 -0.71%
루트로닉3우... +5.14%
엔지켐생명... +17.11%

20분 지연 시세

기관 순매수

기관 순매수 코스피
코스피
삼성중공업 +3.56%
현대중공업 +2.33%
LG디스플레... +4.85%
삼성전자우 +0.26%
현대모비스 +2.14%
기관 순매수 코스닥
코스닥
와이지엔터... +5.99%
에스엠 +3.74%
메디톡스 +2.86%
파라다이스 +0.27%
원익IPS +0.63%

20분 지연 시세

포토