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(주)테스 기타 경영사항(특허권 취득)(자율공시)(가스공급유닛)

입력: 2020-05-07 16:11 / 수정: 2020-05-07 16:11

기타 경영사항(특허권 취득)(자율공시)
1. 특허명칭 가스공급유닛
2. 특허 주요내용 본 특허는 대면적 기판에 대한 각종 처리공정을 수행하는 기판처리장치에 있어서 처리모드에 따라 기판처리장치의 내부로 각종 가스를 공급하는 경우에 가스를 균일하게 기판처리장치의 내부에서 분산시킬 수 있는 가스공급유닛에 대한 것임.

본 특허에 따른 가스공급유닛은 공급되는 가스 종류에 따라 챔버 내부로 가스가 분사되는 영역을 유동적으로 변경할 수 있도록 구성되어, 증착되는 박막의 두께 균일성을 확보하는 동시에 챔버의 세정효율도 향상시킬 수 있음.
3. 특허권자 (주)테스
4. 특허취득일자 2020-05-07
5. 특허 활용계획 장비 제조시 특허기술 적용을 통한 제품경쟁력 강화
6. 확인일자 2020-05-07
7. 기타 투자판단에 참고할 사항 1.출원번호(국내): 10-2018-0111176

2.상기 특허취득일자 및 확인일자는 특허 수수료 납부일자 기준임.
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